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ダイオキシン類に係る特定施設及び排出基準

2021年7月1日

ページ番号:274567

ダイオキシン類に係る特定施設及び排出基準(ダイオキシン類対策特別措置法(平成12年1月15日施行))

大気に係る排出基準(単位:ナノグラム-TEQ/ノルマル立方メートル)
特定施設の種類新設既設
鉄鋼業焼結炉(処理能力:1トン/時間以上)0.11
製鋼用電気炉(定格容量:1,000キロボルトアンペア以上)0.55
亜鉛回収施設(処理能力:0.5トン/時間以上)110

アルミニウム合金製造施設 (焙焼炉及び乾燥炉 処理能力:0.5トン/時間以上)(溶解炉 容量:1トン以上)

15
廃棄物焼却炉
(火床面積0.5平方メートル以上又は焼却能力50キログラム/時間以上)
4トン/時間以上0.11

2トン/時間以上4トン/時間未満

15
2トン/時間未満510
  • 注1
    既設施設基準は平成12年1月15日以前に設置され、又は設置の工事がされている特定施設について適用。なお、製鋼用電気炉及び廃棄物焼却炉のうち、平成9年12月2日以降に設置され、大気汚染防止法において新設施設の指定物質抑制基準が適用されていた施設については、新設施設の排出基準を適用。
  • 注2
    廃棄物焼却炉については酸素濃度12パーセント補正、焼結炉については酸素濃度15パーセント補正を行う。
水質に係る排出基準(単位:ピコグラム-TEQ/リットル)
 特定施設の種類排出基準
1硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設10
2カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設10
3硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設10
4アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設10
5担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設10
6塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設10
7カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設のうち、硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設及び廃ガス洗浄施設10
8クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、水洗施設及び廃ガス洗浄施設10
94-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、ろ過施設、乾燥施設及び廃ガス洗浄施設10
102,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、ろ過施設及び廃ガス洗浄施設10
11ジオキサジンバイオレットの製造の用に供する施設のうち、ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設及び熱風乾燥施設10
12アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設10
13亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設のうち、精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設10
14担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供する施設のうち、ろ過施設、精製施設及び廃ガス洗浄施設10
15廃棄物焼却炉(火床面積が0.5m2以上又は焼却能力50kg/h以上)に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設及び汚水又は廃液を排出する灰の貯留施設10
16廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設10
17フロン類(CFC及びHCFC)の破壊(プラズマ反応法、廃棄物混焼法、液中燃焼法及び過熱蒸気反応法によるものに限る。)の用に供する施設のうち、プラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設10
18水質基準対象施設から排出される下水を処理する下水道終末処理施設10
191から17までの施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設10
廃棄物焼却炉から排出されるばいじん、燃え殻の処理基準(単位:ナノグラム-TEQ/グラム)
特定施設の種類処理基準
廃棄物焼却炉3

  • 平成12年1月15日以前に設置され、又は設置の工事がされている施設において、セメント固化、薬剤処理又は酸抽出処理を行ったものは、基準を適用しない。(ダイオキシン類対策特別措置法施行規則附則第2条第3項)

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